陽極氧化的鋁電解氧化進程，在這個進程中，鋁及鋁合金的外表凡間為氧化物薄膜層，這層氧化膜具有性，裝飾性等功用***征。氧化膜的發(fā)生的溶液反應一般會在溶液的地步發(fā)生。硬質陽極氧化浴，典型的硫酸溶液與硫酸添加有機酸，如草酸，硫酸等。

　　至于露塑、脫皮、毛刺、麻點和深鍍差等缺陷，在電鍍中是***不答應存在的。至于銅含量***于5%或硅含量***于8%變形鋁合金，或高硅鋁合金壓力鑄造，也許還應思考添加一些不凡辦法的陽極氧化。硬質陽極氧化處置。

　　鋁是相比生動的金屬，規(guī)范電位-1.66v，在空氣中會構成一層厚度約0.01to0.1微米的氧化膜，這層氧化膜為非晶態(tài)，薄而多孔，耐蝕性差。普通要求的硬陽極氧化薄膜厚度***25-150um，硬質陽極氧化膜厚度50-80um，薄膜的厚度是不than25um硬質陽極氧化薄膜，用于齒鑰匙和一個螺旋和其他場所具有耐磨零件，或***緣陽極氧化膜厚度約為50 um，在一些不凡的條件，要產超越125um厚度的硬質陽極氧化膜的陽極氧化膜，但必須注意較厚，外層的硬度可以降低，薄膜外表粗糙度添加。 5/馬克以上。換個說法，假如說為十多萎靡的氧化膜，我們可以想象那是比較細微的深深的孔。

　　此外，經由削減氧化溫度或降低硫酸濃度到達硬質陽極氧化處置。但是，如果鋁及其合金在恰當?shù)碾娊赓|，以鋁作為陽極，電流的效果，使氧化物薄膜的外表，這種辦法稱為陽極氧化。從界說的陽極氧化的鋁陽極氧化膜，只包羅天生進程。鋁合金硬質陽極氧化工藝，***要用于工程或軍事目標，它適用于變形鋁合金，它也可用于鑄造合金零件。例如：the2系列鋁合金，為了防止在鋁合金陽極氧化進程中被，可以采用385g / l15g /升硫酸與草酸電解，電流密度應添加至2。

　　氧化膜的薄厚一般會在100nm~200nm之間，一般的表面的小孔之中會有300~500nm的***小間隔。這種宏觀感覺是由表面的微觀狀態(tài)所決定的，也就是說微觀表面必需非常平整。

　　一般據我們的經驗來說外層是比較多空組成，其結構主要由無機組成，為非晶體的AI2O3以及r-AI2O3.H2O這種一般為離子泛起在溶液之中。而一般的硫酸殃及演化出來的小孔一般會在二十多毫米左右。

　　關于鋁氧化的技術以及原理還有***多值得我們去探索的，以及***多技術需要要用到我們的產業(yè)出產中。鍍層***不能有霧狀存在，極稍微的霧狀，在強光下或重視時是發(fā)現(xiàn)不了的，要在***定的角度和光線下才能發(fā)現(xiàn)，因此易被忽視。